晶體特性:
光學(xué)級(jí)摻氧化鎂鈮酸鋰(MgO:LN)晶體和鈮酸鋰(LN)晶體擁有較好的電光性能,非線(xiàn)性系數(shù)大,光學(xué)均勻性好,機(jī)械及化學(xué)性能穩(wěn)定,不潮解,半波電壓低,缺點(diǎn)是消光比低,抗損傷閾值低。
應(yīng)用范圍:
LN晶體應(yīng)用波長(zhǎng)范圍寬廣(420 – 5200nm),常被應(yīng)用于Er:YAG,Ho:YAG,Tm:YAG激光器中,除了非線(xiàn)性應(yīng)用,鈮酸鋰還作為電光材料在光通訊中起到光調(diào)制作用。。我公司還可提供摻鐵鈮酸鋰晶體(Fe:LiNbO3晶體)。
標(biāo)準(zhǔn)要求 | |||
消光比 | 300:1-700:1 | 平行 | < 20 arc sec. |
整體透過(guò)率 | > 98% | 波前畸變 | λ/4 @ 633nm |
平面度
| λ/8 @ 633nm | 光潔度 | 10-5 膜后 20-10 |
損傷閾值
| 100 MW/cm2 @ 1064nm,10ns,10Hz(LN) 200 MW/cm2 @ 1064nm,10ns,10Hz(MgO:LN) |
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